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岡坂 和尊*; 河内 哲哉; 大山 等*; 原 民夫*; 山口 直洋*; 安藤 剛三*
Japanese Journal of Applied Physics, 39(1), p.70 - 81, 2000/01
被引用回数:1 パーセンタイル:6.9(Physics, Applied)再結合プラズマを用いたリチウム様アルミニウムイオンの軟X線レーザーは数ジュールのエネルギーで軟X線レーザー光が発生できる方法として研究が進められているが、今回、照射レーザーのパターンを変え、それによる発生ゲイン係数の変化を観測し、結果を数値シミュレーションと比較することにより、ゲイン発生のための照射レーザーパターンの最適化を行った。